8 月 20 日消息根據外媒 BusinessKorea 消息，三星電子和 SK 海力士正在研究使用多種韓國產半導體制造相關的材料、設備，以取代進口產品。這是為了減少供應鏈風險，保證自家半導體工廠的正常生產。
三星電子正在測試一家韓國廠商的 EUV 光刻膠樣品，有消息稱三星將在今年下半年開始使用這種光刻膠，用于其 14nm 工藝 DRAM 生產。EUV 光刻膠是半導體芯片生產的核心材料，用于曝光工藝。目前在此類產品全球市場中，日本產品市場份額達到 90% 以上，構成壟斷地位。由于日本已經限制向韓國出口 EUV 光刻膠 2 年多，因此三星電子正努力尋找更可靠的本土光刻膠供應商。
SK 海力士方面，目前正在與韓國氫氟酸制造商RAM Technology 進行合作，以減少對進口產品的依賴。目前，SK 海力士已經在韓國和中國的芯片工廠使用韓國產 HF 氫氟酸。
IT之家了解到，如今中國企業也在努力研發，以求逐步擺脫對于進口芯片制造設備的依賴。據此前消息，南大光電 ArF光刻膠已經通過專家組驗收，可以用于 90nm~14nm 工藝。關于 7nm 工藝用的光刻膠，南大光電表示，目前只是小規模投產，相關生產線正在構建當中，存在較多的不確定性。
